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上海掩膜板哪家廠家值得信賴?

作者:197ges 時間:2021-11-19 12:21:06

制作過程:a、在石英表面濺射一層鉻層,在鉻層上旋涂一層電子束光刻膠;b、利用電子束(或激光)直寫技術將圖形轉移到電子束光刻膠層上。電子源產生許多電子,這些電子被加速并聚焦(通過磁方式或者電方式被聚焦)成形投影到電子束光刻膠上,掃描形成所需要的圖形;c、曝光、顯影;d、濕法或者干法刻蝕(先進的掩膜板生產一般采用干法刻蝕)去掉鉻薄層;e、去除電子束光刻膠;d、粘保護膜(Mount Pellicle)。保護掩膜板杜絕灰塵(Dust)和微小顆粒(Particle)污染。保護膜被緊繃在一個密封框架上,在掩膜板上方約5~10mm。保護膜對曝光光能是透明的,厚度約為0.7~12μm(乙酸硝基氯的苯為0.7μm;聚酯碳氟化物為12μm)。


業內又稱光掩模版、掩膜版,英文名稱 MASK 或 PHOTOMASK),材質:石英玻璃、金屬鉻和感光膠,該產品是由石英玻璃作為襯底,在其上面鍍上一層金屬鉻和感光膠,成為一種感光材料,把已設計好的電路圖形通過電子激光設備曝光在感光膠上,被曝光的區域會被顯影出來,在金屬鉻上形成電路圖形,成為類似曝光后的底片的光掩模版,然后應用于對集成電路進行投影定的位,通過集成電路光刻機對所投影的電路進行光蝕刻,其生產加工工序為:曝光,顯影,去感光膠,最后應用于光蝕刻。

蘇州硅時代電子科技有限公司(Si-Era),集高精度掩模版的設計、研發、制作與服務為一體,公司硬件配置先進,從瑞典、日本、德國等國引進同行業先進的掩模版直寫光刻制作系統及檢查測量的設備,公司核心技術團隊碩士學歷及以上占比80%,骨干員工均有5年以上的掩模版生產、研發經驗。

公司的主要產品高精密掩模版應用于:集成電路(IC),IC封裝,微機電(MEMS),功率器件與分立器件,平板顯示行業(FPD),線路板行業,以及發光二極管(LED)和精細光學元器件行業,產品處于中國大陸掩膜版行業的先進水平。同時公司擁有強大的MEMS設計與加工實力,具備成熟的光刻、刻蝕、鍍膜、封裝、測試等微納加工能力,為客戶提供全方位的技術服務。

結構

實體結構:布滿集成電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。

倍縮光掩模(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光掩模,通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。

光掩模(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。


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